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第一章　半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備行業(yè)基本概述
1.1　半導(dǎo)體的定義和分類
1.1.1　半導(dǎo)體的定義
1.1.2　半導(dǎo)體的分類
1.1.3　半導(dǎo)體的應(yīng)用
1.2　半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備行業(yè)概述
1.2.1　行業(yè)概念界定
1.2.2　行業(yè)主要分類

第二章　2016-2020年中國(guó)半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備行業(yè)發(fā)展環(huán)境PEST分析
2.1　政策環(huán)境（Political）
2.1.1　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)政策匯總
2.1.2　半導(dǎo)體制造利好政策
2.1.3　工業(yè)半導(dǎo)體政策動(dòng)態(tài)
2.1.4　產(chǎn)業(yè)投資基金的支持
2.2　經(jīng)濟(jì)環(huán)境（Economic）
2.2.1　宏觀經(jīng)濟(jì)發(fā)展概況
2.2.2　工業(yè)經(jīng)濟(jì)運(yùn)行情況
2.2.3　經(jīng)濟(jì)轉(zhuǎn)型升級(jí)發(fā)展
2.2.4　未來經(jīng)濟(jì)發(fā)展展望
2.3　社會(huì)環(huán)境
2.3.1　移動(dòng)網(wǎng)絡(luò)運(yùn)行狀況
2.3.2　研發(fā)經(jīng)費(fèi)投入增長(zhǎng)
2.3.3　科技人才隊(duì)伍壯大
2.4　技術(shù)環(huán)境（Technological）
2.4.1　企業(yè)研發(fā)投入
2.4.2　技術(shù)迭代歷程
2.4.3　企業(yè)專利狀況

第三章　2016-2020年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展?fàn)顩r
3.1　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈分析
3.1.1　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)
3.1.2　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈流程
3.1.3　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移
3.2　2016-2020年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)總體分析
3.2.1　市場(chǎng)銷售規(guī)模
3.2.2　行業(yè)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)
3.2.3　區(qū)域市場(chǎng)格局
3.2.4　產(chǎn)業(yè)研發(fā)投入
3.2.5　市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)狀況
3.2.6　企業(yè)支出狀況
3.2.7　產(chǎn)業(yè)影響因素
3.2.8　產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景
3.3　2016-2020年中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)運(yùn)行狀況
3.3.1　產(chǎn)業(yè)發(fā)展歷程
3.3.2　產(chǎn)業(yè)銷售規(guī)模
3.3.3　市場(chǎng)規(guī)�，F(xiàn)狀
3.3.4　產(chǎn)業(yè)區(qū)域分布
3.3.5　市場(chǎng)機(jī)會(huì)分析
3.4　2016-2020年中國(guó)IC設(shè)計(jì)行業(yè)發(fā)展分析
3.4.1　行業(yè)發(fā)展歷程
3.4.2　市場(chǎng)發(fā)展規(guī)模
3.4.3　企業(yè)發(fā)展?fàn)顩r
3.4.4　產(chǎn)業(yè)地域分布
3.4.5　專利申請(qǐng)情況
3.4.6　資本市場(chǎng)表現(xiàn)
3.4.7　行業(yè)面臨挑戰(zhàn)
3.5　2016-2020年中國(guó)IC制造行業(yè)發(fā)展分析
3.5.1　制造工藝分析
3.5.2　晶圓加工技術(shù)
3.5.3　市場(chǎng)發(fā)展規(guī)模
3.5.4　企業(yè)排名狀況
3.5.5　行業(yè)發(fā)展措施
3.6　2016-2020年中國(guó)IC封裝測(cè)試行業(yè)發(fā)展分析
3.6.1　封裝基本介紹
3.6.2　封裝技術(shù)趨勢(shì)
3.6.3　芯片測(cè)試原理
3.6.4　芯片測(cè)試分類
3.6.5　市場(chǎng)發(fā)展規(guī)模
3.6.6　企業(yè)排名狀況
3.6.7　技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)

第四章　2016-2020年半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜合分析
4.1　2016-2020年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展形勢(shì)
4.1.1　市場(chǎng)銷售規(guī)模
4.1.2　市場(chǎng)結(jié)構(gòu)分析
4.1.3　市場(chǎng)區(qū)域格局
4.1.4　重點(diǎn)廠商介紹
4.1.5　廠商競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)
4.1.6　市場(chǎng)發(fā)展預(yù)測(cè)
4.2　2016-2020年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀
4.2.1　市場(chǎng)銷售規(guī)模
4.2.2　市場(chǎng)需求分析
4.2.3　市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)態(tài)勢(shì)
4.2.4　市場(chǎng)國(guó)產(chǎn)化率
4.2.5　行業(yè)發(fā)展成就
4.3　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心設(shè)備——晶圓制造設(shè)備市場(chǎng)運(yùn)行分析
4.3.1　設(shè)備基本概述
4.3.2　核心環(huán)節(jié)分析
4.3.3　主要廠商介紹
4.3.4　廠商競(jìng)爭(zhēng)格局
4.3.5　市場(chǎng)發(fā)展規(guī)模
4.4　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心設(shè)備——晶圓加工設(shè)備市場(chǎng)運(yùn)行分析
4.4.1　設(shè)備基本概述
4.4.2　市場(chǎng)發(fā)展規(guī)模
4.4.3　市場(chǎng)價(jià)值構(gòu)成
4.4.4　市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局

第五章　2016-2020年半導(dǎo)體光刻設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展分析
5.1　半導(dǎo)體光刻環(huán)節(jié)基本概述
5.1.1　光刻工藝重要性
5.1.2　光刻工藝的原理
5.1.3　光刻工藝的流程
5.2　半導(dǎo)體光刻技術(shù)發(fā)展分析
5.2.1　光刻技術(shù)原理
5.2.2　光刻技術(shù)歷程
5.2.3　光學(xué)光刻技術(shù)
5.2.4　EUV光刻技術(shù)
5.2.5　X射線光刻技術(shù)
5.2.6　納米壓印光刻技術(shù)
5.3　2016-2020年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展綜述
5.3.1　光刻機(jī)工作原理
5.3.2　光刻機(jī)發(fā)展歷程
5.3.3　光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈條
5.3.4　光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模
5.3.5　光刻機(jī)市場(chǎng)需求
5.3.6　光刻機(jī)競(jìng)爭(zhēng)格局
5.3.7　光刻機(jī)技術(shù)差距
5.4　光刻設(shè)備核心產(chǎn)品——EUV光刻機(jī)市場(chǎng)狀況
5.4.1　EUV光刻機(jī)基本介紹
5.4.2　典型企業(yè)經(jīng)營(yíng)狀況
5.4.3　EUV光刻機(jī)需求企業(yè)
5.4.4　EUV光刻機(jī)研發(fā)分析

第六章　2016-2020年半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展分析
6.1　半導(dǎo)體刻蝕環(huán)節(jié)基本概述
6.1.1　刻蝕工藝介紹
6.1.2　刻蝕工藝分類
6.1.3　刻蝕工藝參數(shù)
6.2　干法刻蝕工藝發(fā)展優(yōu)勢(shì)分析
6.2.1　干法刻蝕優(yōu)點(diǎn)分析
6.2.2　干法刻蝕應(yīng)用分類
6.2.3　干法刻蝕技術(shù)演進(jìn)
6.3　2016-2020年全球半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展?fàn)顩r
6.3.1　市場(chǎng)發(fā)展規(guī)模
6.3.2　市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局
6.3.3　設(shè)備研發(fā)支出
6.4　2016-2020年中國(guó)半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展?fàn)顩r
6.4.1　市場(chǎng)發(fā)展規(guī)模
6.4.2　企業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
6.4.3　市場(chǎng)需求狀況
6.4.4　市場(chǎng)空間測(cè)算

第七章　2016-2020年半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展分析
7.1　半導(dǎo)體清洗環(huán)節(jié)基本概述
7.1.1　清洗環(huán)節(jié)的重要性
7.1.2　清洗工藝類型比較
7.1.3　清洗設(shè)備技術(shù)原理
7.1.4　清洗設(shè)備主要類型
7.1.5　清洗設(shè)備主要部件
7.2　2016-2020年半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展?fàn)顩r
7.2.1　市場(chǎng)發(fā)展規(guī)模
7.2.2　市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局
7.2.3　市場(chǎng)發(fā)展機(jī)遇
7.2.4　市場(chǎng)發(fā)展趨勢(shì)
7.3　半導(dǎo)體清洗機(jī)領(lǐng)先企業(yè)布局狀況
7.3.1　迪恩士公司
7.3.2　盛美半導(dǎo)體
7.3.3　至純科技公司
7.3.4　國(guó)產(chǎn)化布局

第八章　2016-2020年半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展分析
8.1　半導(dǎo)體測(cè)試環(huán)節(jié)基本概述
8.1.1　測(cè)試流程介紹
8.1.2　前道工藝檢測(cè)
8.1.3　中后道的測(cè)試
8.2　2016-2020年半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展?fàn)顩r
8.2.1　市場(chǎng)發(fā)展規(guī)模
8.2.2　市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局
8.2.3　細(xì)分市場(chǎng)結(jié)構(gòu)
8.2.4　設(shè)備制造廠商
8.2.5　主要產(chǎn)品介紹
8.2.6　市場(chǎng)空間測(cè)算
8.3　半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備重點(diǎn)企業(yè)發(fā)展啟示
8.3.1　泰瑞達(dá)
8.3.2　愛德萬
8.4　半導(dǎo)體測(cè)試核心設(shè)備發(fā)展分析
8.4.1　測(cè)試機(jī)
8.4.2　分選機(jī)
8.4.3　探針臺(tái)

第九章　2016-2020年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)其他設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展分析
9.1　單晶爐設(shè)備
9.1.1　設(shè)備基本概述
9.1.2　市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀
9.1.3　企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局
9.1.4　市場(chǎng)空間測(cè)算
9.2　氧化/擴(kuò)散設(shè)備
9.2.1　設(shè)備基本概述
9.2.2　市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀
9.2.3　企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局
9.2.4　核心產(chǎn)品介紹
9.3　薄膜沉積設(shè)備
9.3.1　設(shè)備基本概述
9.3.2　市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀
9.3.3　企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局
9.3.4　市場(chǎng)前景展望
9.4　化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備
9.4.1　設(shè)備基本概述
9.4.2　市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀
9.4.3　市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局
9.4.4　主要企業(yè)分析

第十章　國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備重點(diǎn)企業(yè)經(jīng)營(yíng)狀況
10.1　應(yīng)用材料
10.1.1　企業(yè)發(fā)展概況
10.1.2　企業(yè)發(fā)展歷程
10.1.3　企業(yè)經(jīng)營(yíng)狀況
10.1.4　企業(yè)核心產(chǎn)品
10.1.5　企業(yè)發(fā)展前景
10.2　泛林集團(tuán)
10.2.1　企業(yè)發(fā)展概況
10.2.2　企業(yè)經(jīng)營(yíng)狀況
10.2.3　企業(yè)核心產(chǎn)品
10.2.4　企業(yè)發(fā)展前景
10.3　阿斯麥
10.3.1　企業(yè)發(fā)展概況
10.3.2　企業(yè)經(jīng)營(yíng)狀況
10.3.3　企業(yè)核心產(chǎn)品
10.3.4　企業(yè)發(fā)展前景
10.4　東京電子
10.4.1　企業(yè)發(fā)展概況
10.4.2　企業(yè)經(jīng)營(yíng)狀況
10.4.3　企業(yè)核心產(chǎn)品
10.4.4　企業(yè)發(fā)展前景

第十一章　國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備重點(diǎn)企業(yè)經(jīng)營(yíng)狀況
11.1　晶盛機(jī)電
11.1.1　企業(yè)發(fā)展概況
11.1.2　經(jīng)營(yíng)效益分析
11.1.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營(yíng)分析
11.1.4　財(cái)務(wù)狀況分析
11.1.5　核心競(jìng)爭(zhēng)力分析
11.2　捷佳偉創(chuàng)
11.2.1　企業(yè)發(fā)展概況
11.2.2　經(jīng)營(yíng)效益分析
11.2.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營(yíng)分析
11.2.4　財(cái)務(wù)狀況分析
11.2.5　核心競(jìng)爭(zhēng)力分析
11.3　北方華創(chuàng)
11.3.1　企業(yè)發(fā)展概況
11.3.2　經(jīng)營(yíng)效益分析
11.3.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營(yíng)分析
11.3.4　財(cái)務(wù)狀況分析
11.3.5　核心競(jìng)爭(zhēng)力分析
11.4　中微公司
11.4.1　企業(yè)發(fā)展概況
11.4.2　經(jīng)營(yíng)效益分析
11.4.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營(yíng)分析
11.4.4　財(cái)務(wù)狀況分析
11.4.5　核心競(jìng)爭(zhēng)力分析
11.5　中電科電子
11.5.1　企業(yè)發(fā)展概況
11.5.2　經(jīng)營(yíng)效益分析
11.5.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營(yíng)分析
11.5.4　財(cái)務(wù)狀況分析
11.5.5　核心競(jìng)爭(zhēng)力分析
11.6　上海微電子
11.6.1　企業(yè)發(fā)展概況
11.6.2　經(jīng)營(yíng)效益分析
11.6.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營(yíng)分析
11.6.4　財(cái)務(wù)狀況分析
11. 6.5　核心競(jìng)爭(zhēng)力分析

第十二章　對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)投資價(jià)值分析
12.1　半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)并購(gòu)市場(chǎng)發(fā)展?fàn)顩r
12.1.1　企業(yè)并購(gòu)歷史回顧
12.1.2　行業(yè)并購(gòu)特征分析
12.1.3　企業(yè)并購(gòu)動(dòng)機(jī)歸因
12.2　中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)投資機(jī)遇分析
12.2.1　行業(yè)投資機(jī)會(huì)分析
12.2.2　建廠加速拉動(dòng)需求
12.2.3　產(chǎn)業(yè)政策扶持發(fā)展
12.3　對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備投資價(jià)值評(píng)估及建議
12.3.1　投資價(jià)值綜合評(píng)估
12.3.2　行業(yè)投資特點(diǎn)分析
12.3.3　行業(yè)投資風(fēng)險(xiǎn)預(yù)警
12.3.4　行業(yè)投資策略建議

第十三章　中國(guó)行業(yè)標(biāo)桿企業(yè)項(xiàng)目投資建設(shè)案例深度解析
13.1　半導(dǎo)體濕法設(shè)備制造項(xiàng)目
13.1.1　項(xiàng)目基本概述
13.1.2　資金需求測(cè)算
13.1.3　投資價(jià)值分析
13.1.4　建設(shè)內(nèi)容規(guī)劃
13.1.5　經(jīng)濟(jì)效益分析
13.2　半導(dǎo)體行業(yè)超高潔凈管閥件生產(chǎn)線技改項(xiàng)目
13.2.1　項(xiàng)目基本概述
13.2.2　資金需求測(cè)算
13.2.3　投資價(jià)值分析
13.2.4　項(xiàng)目實(shí)施必要性
13.2.5　實(shí)施進(jìn)度安排
13.2.6　經(jīng)濟(jì)效益分析
13.3　光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目
13.3.1　項(xiàng)目基本概述
13.3.2　資金需求測(cè)算
13.3.3　投資價(jià)值分析
13.3.4　建設(shè)內(nèi)容規(guī)劃
13.3.5　項(xiàng)目實(shí)施必要性
13.3.6　經(jīng)濟(jì)效益分析

第十四章　對(duì)2021-2026年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及預(yù)測(cè)分析
14.1　中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)未來發(fā)展趨勢(shì)
14.1.1　技術(shù)發(fā)展利好
14.1.2　自主創(chuàng)新發(fā)展
14.1.3　產(chǎn)業(yè)地位提升
14.1.4　市場(chǎng)應(yīng)用前景
14.2　中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展前景展望
14.2.1　政策支持發(fā)展
14.2.2　行業(yè)發(fā)展機(jī)遇
14.2.3　市場(chǎng)應(yīng)用需求
14.2.4　行業(yè)發(fā)展前景
14.3　對(duì)2021-2026年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)預(yù)測(cè)分析
14.3.1　2021-2026年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)影響因素分析
14.3.2　2021-2026年中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售規(guī)模預(yù)測(cè)

部分圖表目錄：
圖表1　半導(dǎo)體分類結(jié)構(gòu)圖
圖表2　半導(dǎo)體分類
圖表3　半導(dǎo)體分類及應(yīng)用
圖表4　半導(dǎo)體設(shè)備構(gòu)成
圖表5　IC芯片制造核心工藝主要設(shè)備全景圖
圖表6　2016-2020年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)相關(guān)產(chǎn)業(yè)政策（一）
圖表7　2016-2020年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)相關(guān)產(chǎn)業(yè)政策（二）
圖表8　《中國(guó)制造2025》半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)政策目標(biāo)與政策支持
圖表9　2015-2030年IC產(chǎn)業(yè)政策目標(biāo)與發(fā)展重點(diǎn)
圖表10　一期大基金投資各領(lǐng)域份額占比
圖表11　國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)基金二期出資方（一）
圖表12　國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)基金二期出資方（二）
圖表13　國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金二期投資方向
圖表14　2016-2020年國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值及其增長(zhǎng)速度
圖表15　2016-2020年三次產(chǎn)業(yè)增加值占國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值比重
圖表16　2020年GDP初步核算數(shù)據(jù)
圖表17　2016-2020年GDP同比增長(zhǎng)速度
圖表18　2020年規(guī)模以上工業(yè)增加至同比增長(zhǎng)速度
圖表19　2020年規(guī)模以上工業(yè)生產(chǎn)主要數(shù)據(jù)
圖表20　2016-2020年網(wǎng)民規(guī)模和互聯(lián)網(wǎng)普及率
圖表21　2016-2020年手機(jī)網(wǎng)民規(guī)模及其占網(wǎng)民比例
圖表22　2016-2020年研究與試驗(yàn)發(fā)展（R&D）經(jīng)費(fèi)支出及其增長(zhǎng)速度
圖表23　2020年專利申請(qǐng)、授權(quán)和有效專利情況
圖表24　2016-2020年國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備代表公司的研發(fā)支出/營(yíng)業(yè)收入對(duì)比
圖表25　2016-2020年國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備代表公司的研發(fā)支出對(duì)比
圖表26　半導(dǎo)體企業(yè)技術(shù)迭代圖
圖表27　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈?zhǔn)疽鈭D
圖表28　半導(dǎo)體上下游產(chǎn)業(yè)鏈
圖表29　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移和產(chǎn)業(yè)分工
圖表30　集成電路產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移狀況

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