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全球及中國半導體濺射靶材市場發(fā)展現(xiàn)狀與投資前景策略分析報告2025-2030年

【出版機構(gòu)】: 中研智業(yè)研究院
【報告名稱】: 全球及中國半導體濺射靶材市場發(fā)展現(xiàn)狀與投資前景策略分析報告2025-2030年
【關 鍵 字】: 半導體濺射靶材行業(yè)報告
【出版日期】: 2024年12月
【交付方式】:EMIL電子版或特快專遞
【報告價格】: 【紙質(zhì)版】: 6500元 【電子版】: 6800元 【紙質(zhì)+電子】: 7000元
【聯(lián)系電話】: 010-57126768 15311209600
【報告導讀】
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【報告目錄】

——綜述篇——
第1章:半導體濺射靶材綜述/產(chǎn)業(yè)畫像/數(shù)據(jù)說明
1.1 半導體濺射靶材行業(yè)綜述
1.1.1 半導體濺射靶材重要性
1.1.2 半導體濺射靶材的類型
1.1.3 半導體濺射靶材所處行業(yè)
1.1.4 半導體濺射靶材行業(yè)監(jiān)管
1.1.5 半導體濺射靶材行業(yè)標準
1.2 半導體濺射靶材產(chǎn)業(yè)畫像
1.2.1 半導體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)梳理
1.2.2 半導體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈生態(tài)全景圖譜
1.2.3 半導體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈區(qū)域熱力圖
1.3 本報告數(shù)據(jù)來源及統(tǒng)計標準說明
1.3.1 本報告研究范圍界定
1.3.2 本報告權(quán)威數(shù)據(jù)來源
1.3.3 研究方法及統(tǒng)計標準
——現(xiàn)狀篇——
第2章:全球半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析
2.1 全球半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展歷程
2.2 全球半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
2.2.1 全球半導體濺射靶材企業(yè)及其產(chǎn)品
2.2.2 全球半導體濺射靶材細分市場概況
2.2.3 全球半導體濺射靶材主要下游應用
2.3 全球半導體濺射靶材市場競爭格局
2.3.1 全球半導體濺射靶材市場競爭格局
2.3.2 全球半導體濺射靶材市場集中度
2.3.3 全球半導體濺射靶材并購交易
2.4 全球半導體濺射靶材市場規(guī)模體量
2.5 全球半導體濺射靶材區(qū)域發(fā)展格局
2.5.1 全球半導體濺射靶材區(qū)域格局
2.5.2 全球半導體濺射靶材貿(mào)易關系
2.5.3 全球半導體濺射靶材貿(mào)易流向
2.6 國外半導體濺射靶材發(fā)展經(jīng)驗借鑒
2.6.1 國外半導體濺射靶材發(fā)展經(jīng)驗借鑒
2.6.2 重點區(qū)域市場:日本
2.6.3 重點區(qū)域市場:美國
2.6.4 重點區(qū)域市場:歐洲
2.7 全球半導體濺射靶材市場前景預測
2.8 全球半導體濺射靶材發(fā)展趨勢洞悉
第3章:中國半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析
3.1 中國半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展歷程
3.2 中國半導體濺射靶材市場主體分析
3.2.1 中國半導體濺射靶材參與者類型
3.2.2 半導體濺射靶材企業(yè)數(shù)量/名單
3.2.3 半導體濺射靶材企業(yè)入場方式
3.2.4 半導體濺射靶材企業(yè)入場進程
3.3 中國半導體濺射靶材國產(chǎn)替代空間
3.3.1 中國半導體濺射靶材國產(chǎn)化進程/國產(chǎn)化率
3.3.2 中國半導體濺射靶材進口貿(mào)易概況
3.3.3 中國半導體濺射靶材國產(chǎn)替代空間
3.4 中國半導體濺射靶材市場供給/生產(chǎn)
3.4.1 半導體濺射靶材企業(yè)產(chǎn)品列表
3.4.2 半導體濺射靶材產(chǎn)能投資/建設
3.4.3 半導體濺射靶材生產(chǎn)情況/產(chǎn)量
3.5 中國半導體濺射靶材客戶驗證情況
3.6 中國半導體濺射靶材市場需求/銷售
3.6.1 半導體濺射靶材市場銷售模式
3.6.2 半導體濺射靶材市場需求現(xiàn)狀
3.6.3 半導體濺射靶材市場供求關系
3.6.4 半導體濺射靶材市場價格水平
3.7 中國半導體濺射靶材企業(yè)獲利水平
3.8 中國半導體濺射靶材市場規(guī)模體量
3.9 中國半導體濺射靶材市場競爭態(tài)勢
3.9.1 半導體濺射靶材同業(yè)競爭程度
3.9.2 半導體濺射靶材市場競爭格局
3.9.3 半導體濺射靶材市場集中度
3.10 中國半導體濺射靶材投融資及熱門賽道
3.10.1 半導體濺射靶材企業(yè)融資方式
3.10.2 半導體濺射靶材行業(yè)兼并重組
3.10.3 半導體濺射靶材行業(yè)融資動態(tài)
3.11 中國半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展痛點問題
第4章:中國半導體濺射靶材技術進展及供應鏈
4.1 半導體濺射靶材競爭壁壘
4.1.1 半導體濺射靶材核心競爭力/護城河
4.1.2 半導體濺射靶材進入壁壘/競爭壁壘
1、技術壁壘
2、認證壁壘(客戶認證)
4.1.3 半導體濺射靶材潛在進入者的威脅
4.2 半導體濺射靶材技術研發(fā)
4.2.1 半導體濺射靶材技術研發(fā)現(xiàn)狀
4.2.2 半導體濺射靶材專利申請狀況
4.2.3 半導體濺射靶材科研創(chuàng)新動態(tài)
4.2.4 半導體濺射靶材技術研發(fā)方向/未來研究重點
4.3 半導體濺射靶材制造
4.3.1 半導體濺射靶材生產(chǎn)工藝流程
4.3.2 半導體濺射靶材關鍵核心技術
4.3.3 半導體濺射靶材核心技術——金屬提純
1、化學提純
2、物理提純
4.3.4 半導體濺射靶材制造——粉末冶金法
1、熱等靜壓法
2、熱壓法
3、冷壓-燒結(jié)法
4.3.5 半導體濺射靶材制造——熔煉法
1、真空感應熔煉
2、真空電弧熔煉
3、真空電子束熔煉
4.3.6 半導體濺射靶材制造——加工工藝
1、塑性變形
2、熱處理
3、控制晶粒取向
4.4 半導體濺射鍍膜技術
4.4.1 半導體濺射靶材技術原理
4.4.2 磁控濺射鍍膜技術概述
4.4.3 磁控濺射鍍膜關鍵技術
1、靶材的選擇與制備
2、磁場設計
3、濺射氣氛的控制
4、底物的處理和溫度控制
4.5 半導體濺射靶材成本結(jié)構(gòu)
4.5.1 半導體濺射靶材成本結(jié)構(gòu)分析
4.5.2 半導體濺射靶材成本控制策略
4.6 半導體濺射靶材核心原料——高純金屬材料
4.6.1 高純金屬材料性能用途
4.6.2 高純金屬材料市場概況
4.6.3 高純金屬材料供應商格局
4.6.4 高純金屬材料國產(chǎn)化現(xiàn)狀
4.7 半導體濺射靶材生產(chǎn)設備
4.7.1 半導體濺射靶材產(chǎn)線設備組成/選型
4.7.2 半導體濺射靶材生產(chǎn)設備市場概況
4.7.4 半導體濺射靶材關鍵設備——濺射機臺
4.8 半導體濺射靶材供應鏈管理及面臨挑戰(zhàn)
第5章:中國半導體濺射靶材行業(yè)細分市場分析
5.1 半導體濺射靶材行業(yè)細分市場發(fā)展概況
5.1.1 半導體濺射靶材的替代品威脅
5.1.2 半導體濺射靶材產(chǎn)品綜合對比
5.1.3 半導體濺射靶材細分市場概況
5.1.4 半導體濺射靶材細分市場結(jié)構(gòu)
5.2 半導體濺射靶材細分市場:金屬靶材
5.2.1 金屬靶材概述
5.2.2 金屬靶材市場概況
5.2.3 金屬靶材競爭格局
5.2.4 主要金屬靶材概況
1、高純鋁靶材
2、高純銅靶材
3、高純鈦靶材
4、高純鉭靶材
5、其他
5.2.5 金屬靶材發(fā)展趨勢
5.3 半導體濺射靶材細分市場:合金靶材
5.3.1 合金靶材概述
5.3.2 合金靶材市場概況
5.3.3 合金靶材競爭格局
5.3.4 主要合金靶材概況
1、鎳鉻合金靶材
2、鎳鈷合金靶材
3、鎳鉑合金靶材
4、鎢鈦合金靶材
5、鐵鈷合金靶材
5.3.5 合金靶材發(fā)展趨勢
5.4 半導體濺射靶材細分市場:陶瓷靶材
5.4.1 陶瓷靶材概述
5.4.2 陶瓷靶材市場概況
5.4.3 陶瓷靶材競爭格局
5.4.4 主要陶瓷靶材概況
1、ITO靶材
2、二氧化硅靶材
3、氟化硅靶材
4、氧化鋅靶材
5、氧化鈦靶材
5.4.5 陶瓷靶材發(fā)展趨勢
5.5 半導體濺射靶材細分市場戰(zhàn)略地位分析
第6章:中國半導體濺射靶材行業(yè)應用需求分析
6.1 濺射靶材應用場景&領域分布
6.1.1 濺射鍍膜中間產(chǎn)品概況
1、濺射鍍膜企業(yè)多但質(zhì)量
2、濺射機臺長期被美日企業(yè)壟斷
6.1.2 濺射靶材主要應用場景
6.1.3 濺射靶材下游應用結(jié)構(gòu)
6.2 濺射靶材細分應用:半導體芯片靶材
6.2.1 半導體芯片領域濺射靶材概述
6.2.2 中國硅晶圓現(xiàn)有/規(guī)劃產(chǎn)能
1、6英寸及以下
2、8英寸半導體硅片產(chǎn)能統(tǒng)計
3、12英寸半導體硅片產(chǎn)能統(tǒng)計
6.2.3 中國晶圓廠數(shù)量及擴產(chǎn)計劃
1、新增晶圓廠數(shù)量
2、晶圓廠投資擴產(chǎn)
3、晶圓代工的現(xiàn)狀
6.2.4 中國集成電路歷年產(chǎn)量變化
6.2.5 半導體芯片領域濺射靶材市場現(xiàn)狀
6.2.6 半導體芯片領域濺射靶材需求潛力
6.3 濺射靶材細分應用:平板顯示靶材
6.3.1 平板顯示領域濺射靶材概述
6.3.2 平板顯示領域濺射靶材市場現(xiàn)狀
6.3.3 平板顯示領域濺射靶材需求潛力
6.4 濺射靶材細分應用:太陽能電池靶材
6.4.1 太陽能電池領域濺射靶材概述
6.4.2 太陽能電池領域濺射靶材市場現(xiàn)狀
6.4.3 太陽能電池領域濺射靶材需求潛力
6.5 濺射靶材細分應用:信息存儲靶材
6.5.1 信息存儲領域濺射靶材概述
6.5.2 信息存儲領域濺射靶材市場現(xiàn)狀
6.5.3 信息存儲領域濺射靶材需求潛力
6.6 濺射靶材細分應用:其他
6.6.1 工具改性領域
6.6.2 電子器件領域
6.6.3 玻璃鍍膜領域
6.7 濺射靶材細分應用市場戰(zhàn)略地位分析
第7章:全球及中國半導體濺射靶材企業(yè)案例解析
7.1 全球及中國半導體濺射靶材企業(yè)梳理對比
7.2 全球半導體濺射靶材企業(yè)案例分析(不分先后,可指定)
7.2.1 JX金屬(JX Advanced Metals)
1、企業(yè)基本信息
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、半導體濺射靶材業(yè)務布局
4、半導體濺射靶材在華布局
7.2.2 霍尼韋爾(Honeywell )
1、企業(yè)基本信息
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、半導體濺射靶材業(yè)務布局
4、半導體濺射靶材在華布局
7.2.3 東曹(Tosoh Corporation)
1、企業(yè)基本信息
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、半導體濺射靶材業(yè)務布局
4、半導體濺射靶材在華布局
7.2.4 普萊克斯(Praxair)
1、企業(yè)基本信息
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、半導體濺射靶材業(yè)務布局
4、半導體濺射靶材在華布局
7.3 中國高純金屬材料企業(yè)案例分析(不分先后,可指定)
7.3.1 新疆眾和股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營范圍及主營業(yè)務
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、XX專利技術
5、XX產(chǎn)品布局
6、XX應用領域
7、企業(yè)業(yè)務布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢
7.3.2 寧夏東方鉭業(yè)股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營范圍及主營業(yè)務
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、XX專利技術
5、XX產(chǎn)品布局
6、XX應用領域
7、企業(yè)業(yè)務布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢
7.3.3 金川集團股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營范圍及主營業(yè)務
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、XX專利技術
5、XX產(chǎn)品布局
6、XX應用領域
7、企業(yè)業(yè)務布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢
7.3.4 寧波創(chuàng)潤新材料有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營范圍及主營業(yè)務
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、XX專利技術
5、XX產(chǎn)品布局
6、XX應用領域
7、企業(yè)業(yè)務布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢
7.3.5 廈門鎢業(yè)股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營范圍及主營業(yè)務
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、XX專利技術
5、XX產(chǎn)品布局
6、XX應用領域
7、企業(yè)業(yè)務布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢
7.4 中國半導體濺射靶材企業(yè)案例分析(不分先后,可指定)
7.3.1 寧波江豐電子材料股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營范圍及主營業(yè)務
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、半導體濺射靶材專利技術
5、半導體濺射靶材產(chǎn)品布局
6、半導體濺射靶材客戶驗證
7、企業(yè)業(yè)務布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢
7.3.2 有研億金新材料有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營范圍及主營業(yè)務
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、半導體濺射靶材專利技術
5、半導體濺射靶材產(chǎn)品布局
6、半導體濺射靶材客戶驗證
7、企業(yè)業(yè)務布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢
7.3.3 隆華科技集團(洛陽)股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營范圍及主營業(yè)務
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、半導體濺射靶材專利技術
5、半導體濺射靶材產(chǎn)品布局
6、半導體濺射靶材客戶驗證
7、企業(yè)業(yè)務布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢
7.3.4 福建阿石創(chuàng)新材料股份有限公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營范圍及主營業(yè)務
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、半導體濺射靶材專利技術
5、半導體濺射靶材產(chǎn)品布局
6、半導體濺射靶材客戶驗證
7、企業(yè)業(yè)務布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢
7.3.5 廣西晶聯(lián)光電材料有限責任公司
1、企業(yè)基本信息
(1)發(fā)展歷程
(2)基本信息
(3)經(jīng)營范圍及主營業(yè)務
2、企業(yè)經(jīng)營情況
3、企業(yè)資質(zhì)能力
4、半導體濺射靶材專利技術
5、半導體濺射靶材產(chǎn)品布局
6、半導體濺射靶材客戶驗證
7、企業(yè)業(yè)務布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢
——展望篇——
第8章:中國半導體濺射靶材行業(yè)政策環(huán)境及發(fā)展?jié)摿?BR>8.1 半導體濺射靶材行業(yè)政策匯總解讀
8.1.1 中國半導體濺射靶材行業(yè)政策匯總
8.1.2 中國半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展規(guī)劃
8.1.3 中國半導體濺射靶材重點政策解讀
8.2 半導體濺射靶材行業(yè)PEST分析圖
8.3 半導體濺射靶材行業(yè)SWOT分析圖
8.4 半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展?jié)摿υu估
8.5 半導體濺射靶材行業(yè)未來關鍵增長點
8.6 半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展前景預測
8.7 半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展趨勢洞悉
8.7.1 整體發(fā)展趨勢
8.7.2 監(jiān)管規(guī)范趨勢
8.7.3 技術創(chuàng)新趨勢
8.7.4 細分市場趨勢
8.7.5 市場競爭趨勢
8.7.6 市場供需趨勢
第9章:中國半導體濺射靶材行業(yè)投資機會及策略建議
9.1 半導體濺射靶材行業(yè)投資風險預警
9.1.1 半導體濺射靶材行業(yè)投資風險預警
9.1.2 半導體濺射靶材行業(yè)投資風險應對
9.2 半導體濺射靶材行業(yè)投資機會分析
9.2.1 半導體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈薄弱環(huán)節(jié)投資機會
9.2.2 半導體濺射靶材行業(yè)細分領域投資機會
9.2.3 半導體濺射靶材行業(yè)區(qū)域市場投資機會
9.2.4 半導體濺射靶材產(chǎn)業(yè)空白點投資機會
9.3 半導體濺射靶材行業(yè)投資價值評估
9.4 半導體濺射靶材行業(yè)投資策略建議
9.5 半導體濺射靶材行業(yè)可持續(xù)發(fā)展建議
圖表目錄
圖表1:半導體濺射靶材重要性
圖表2:半導體濺射靶材的類型
圖表3:半導體濺射靶材所處行業(yè)
圖表4:半導體濺射靶材行業(yè)監(jiān)管
圖表5:半導體濺射靶材行業(yè)標準
圖表6:半導體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)圖
圖表7:半導體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈生態(tài)全景圖譜
圖表8:半導體濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈區(qū)域熱力圖
圖表9:報告研究范圍界定
圖表10:報告權(quán)威數(shù)據(jù)來源
圖表11:報告研究統(tǒng)計方法
圖表12:全球半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展歷程
圖表13:全球半導體濺射靶材企業(yè)及其產(chǎn)品
圖表14:全球半導體濺射靶材細分市場概況
圖表15:全球半導體濺射靶材主要下游應用
圖表16:全球半導體濺射靶材市場競爭格局
圖表17:全球半導體濺射靶材市場集中度
圖表18:全球半導體濺射靶材并購交易態(tài)勢
圖表19:全球半導體濺射靶材市場規(guī)模體量
圖表20:全球半導體濺射靶材區(qū)域格局
圖表21:全球半導體濺射靶材貿(mào)易關系
圖表22:全球半導體濺射靶材貿(mào)易流向
圖表23:國外半導體濺射靶材發(fā)展經(jīng)驗借鑒
圖表24:日本半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展概況
圖表25:美國半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展概況
圖表26:歐洲半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展概況
圖表27:全球半導體濺射靶材市場前景預測(未來五年)
圖表28:全球半導體濺射靶材發(fā)展趨勢洞悉
圖表29:中國半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展歷程
圖表30:中國半導體濺射靶材研發(fā)/生產(chǎn)企業(yè)
圖表31:中國半導體濺射靶材企業(yè)入場方式
圖表32:中國半導體濺射靶材企業(yè)入場進程
圖表33:中國半導體濺射靶材進口貿(mào)易概況
圖表34:半導體濺射靶材國產(chǎn)替代空間
圖表35:中國半導體濺射靶材企業(yè)產(chǎn)品列表
圖表36:中國半導體濺射靶材產(chǎn)能投資/建設
圖表37:中國半導體濺射靶材生產(chǎn)情況/產(chǎn)量
圖表38:半導體濺射靶材客戶認證情況
圖表39:中國半導體濺射靶材市場銷售模式
圖表40:中國半導體濺射靶材市場需求現(xiàn)狀
圖表41:中國半導體濺射靶材市場供求關系
圖表42:中國半導體濺射靶材市場價格走勢
圖表43:中國半導體濺射靶材市場規(guī)模體量
圖表44:中國半導體濺射靶材同業(yè)競爭程度
圖表45:中國半導體濺射靶材市場競爭格局
圖表46:中國半導體濺射靶材市場集中度
圖表47:中國半導體濺射靶材企業(yè)融資方式
圖表48:中國半導體濺射靶材行業(yè)兼并重組態(tài)勢
圖表49:中國半導體濺射靶材熱門融資賽道
圖表50:中國半導體濺射靶材行業(yè)發(fā)展痛點問題
圖表51:半導體濺射靶材核心競爭力/護城河
圖表52:半導體濺射靶材行業(yè)進入/競爭壁壘
圖表53:半導體濺射靶材潛在進入者的威脅
圖表54:半導體濺射靶材技術研發(fā)現(xiàn)狀
圖表55:中國半導體濺射靶材專利申請狀況
圖表56:中國半導體濺射靶材科研創(chuàng)新動態(tài)
圖表57:半導體濺射靶材技術研發(fā)方向/未來研究重點
圖表58:半導體濺射靶材工藝流程圖解
圖表59:半導體濺射靶材關鍵核心技術
圖表60:半導體濺射靶材制造加工工藝
圖表61:半導體濺射靶材技術原理分析
圖表62:半導體濺射靶材成本結(jié)構(gòu)分析
圖表63:半導體濺射靶材成本控制策略
圖表64:半導體濺射靶材產(chǎn)線設備組成/選型
圖表65:半導體濺射靶材生產(chǎn)設備市場概況
圖表66:半導體濺射靶材生產(chǎn)設備供應格局
圖表67:半導體濺射靶材供應鏈管理及面臨挑戰(zhàn)
圖表68:半導體濺射靶材的替代品威脅分析
圖表69:半導體濺射靶材產(chǎn)品綜合對比
圖表70:中國半導體濺射靶材細分市場概況
圖表71:中國半導體濺射靶材細分市場結(jié)構(gòu)(單位:%)
圖表72:金屬靶材概述
圖表73:金屬靶材市場概況
圖表74:金屬靶材競爭格局
圖表75:金屬靶材發(fā)展趨勢
圖表76:半導體濺射靶材細分市場戰(zhàn)略地位分析
圖表77:濺射靶材主要應用場景
圖表78:濺射靶材下游應用結(jié)構(gòu)(單位:%)
圖表79:半導體芯片領域濺射靶材概述
圖表80:2011-2024年中國集成電路產(chǎn)量及增速(單位:億塊,%)
圖表81:半導體芯片領域濺射靶材市場現(xiàn)狀
圖表82:半導體芯片領域濺射靶材需求潛力
圖表83:平板顯示領域濺射靶材概述
圖表84:平板顯示領域濺射靶材市場現(xiàn)狀
圖表85:平板顯示領域濺射靶材需求潛力
圖表86:太陽能電池領域濺射靶材概述
圖表87:太陽能電池領域濺射靶材市場現(xiàn)狀
圖表88:太陽能電池領域濺射靶材需求潛力
圖表89:信息存儲領域濺射靶材概述
圖表90:信息存儲領域濺射靶材市場現(xiàn)狀
圖表91:信息存儲領域濺射靶材需求潛力
圖表92:濺射靶材細分應用波士頓矩陣分析
圖表93:全球及中國半導體濺射靶材企業(yè)案例解析
圖表94:全球及中國半導體濺射靶材企業(yè)梳理對比
圖表95:全球半導體濺射靶材企業(yè)案例分析說明
圖表96:JX金屬(JX Advanced Metals)基本情況
圖表97:JX金屬(JX Advanced Metals)經(jīng)營情況
圖表98:JX金屬(JX Advanced Metals)半導體濺射靶材業(yè)務布局
圖表99:JX金屬(JX Advanced Metals)半導體濺射靶材在華布局
圖表100:霍尼韋爾(Honeywell )基本情況
圖表101:霍尼韋爾(Honeywell )經(jīng)營情況
圖表102:霍尼韋爾(Honeywell )半導體濺射靶材業(yè)務布局
圖表103:霍尼韋爾(Honeywell )半導體濺射靶材在華布局
圖表104:東曹(Tosoh Corporation)基本情況
圖表105:東曹(Tosoh Corporation)經(jīng)營情況
圖表106:東曹(Tosoh Corporation)半導體濺射靶材業(yè)務布局
圖表107:東曹(Tosoh Corporation)半導體濺射靶材在華布局
圖表108:普萊克斯(Praxair)基本情況
圖表109:普萊克斯(Praxair)經(jīng)營情況
圖表110:普萊克斯(Praxair)半導體濺射靶材業(yè)務布局
圖表111:普萊克斯(Praxair)半導體濺射靶材在華布局
圖表112:新疆眾和股份有限公司發(fā)展歷程
圖表113:新疆眾和股份有限公司基本信息表
圖表114:新疆眾和股份有限公司經(jīng)營范圍及主營業(yè)務
圖表115:新疆眾和股份有限公司經(jīng)營情況
圖表116:新疆眾和股份有限公司經(jīng)營資質(zhì)和能力資質(zhì)
圖表117:新疆眾和股份有限公司XX專利技術
圖表118:新疆眾和股份有限公司XX產(chǎn)品布局
圖表119:新疆眾和股份有限公司XX應用領域
圖表120:新疆眾和股份有限公司業(yè)務布局戰(zhàn)略&優(yōu)劣勢

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